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Industrie du gaz dans l'industrie des semi-conducteurs

L'utilisation de gaz dans l'industrie des semi-conducteurs remonte au début des années 1950 aux années 1960. Pendant le processus de fabrication de semi-conducteurs, les gaz sont principalement utilisés pour nettoyer et protéger les matériaux semi-conducteurs pour assurer leur pureté et leur qualité. Parmi les gaz les plus couramment utilisés figurent l'azote et l'hydrogène.

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Au fur et à mesure que la technologie semi-conductrice s'est développée et que les processus de fabrication ont continué à s'améliorer, la demande de gaz a augmenté. En 1970, le développement ultérieur de la technologie de fabrication de semi-conducteurs, l'application de gaz dans des processus clés tels que la gravure et le dépôt de films minces ont progressivement augmenté, et les gaz de fluor (par exemple SF6) et l'oxygène sont devenus couramment utilisés et les gaz de dépôt. 1980 a vu une nouvelle augmentation de la demande de gaz avec le développement de circuits intégrés et l'augmentation de la demande pour eux. L'hydrogène a été largement utilisé dans le processus de fabrication, notamment le recuit d'hydrogène et le dépôt de vapeur d'hydrogène. Et de 1990 à nos jours, la demande de gaz de haute pureté et de gaz spécifiques a augmenté à mesure que les tailles de dispositifs semi-conducteurs ont continué de rétrécir et de nouveaux processus ont été introduits. Par exemple, l'application d'une lithographie ultraviolette extrême (EUV) nécessite l'utilisation de gaz extrêmement à haute pureté tels que l'azote et l'hydrogène.

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Le gaz semi-conducteur continue d'augmenter avec le développement de produits connexes pilotés par de plus en plus de produits est révélé, tandis que le gaz appartient également à la source de danger, de sorte que les produits utilisés pour la décompression du gaz, les produits de détection de gaz et les produits de fuite de gaz ont émergé, tels que les réglementations de pression, les valves de gaz, les mangeoires de pression de gaz, le détecteur de fuite de gaz, etc., et leurs rôles sont les suivants:

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RÉGULATEURS DE PRESSION: Les régulateurs de pression sont des dispositifs utilisés pour contrôler la pression du gaz. Ils se composent généralement d'une soupape de régulateur et d'un capteur de pression. Les régulateurs de pression prennent une entrée de gaz à haute pression et stabilisent la pression du gaz de sortie en ajustant la vanne pour répondre aux exigences d'application spécifiques. Les régulateurs de pression sont largement utilisés dans des domaines tels que l'industrie, la fabrication et les laboratoires, ainsi que dans l'industrie des semi-conducteurs, entre autres, pour assurer la stabilité et la sécurité de l'approvisionnement en gaz.

Vannes à gaz: Les vannes à gaz sont utilisées pour contrôler l'écoulement des gaz et pour fermer les passages de gaz. Ils ont généralement une fonction ON / OFF qui ouvre ou ferme le débit de gaz. Il existe différents types de vannes à gaz, y compris les vannes manuelles, les vannes électriques et les vannes pneumatiques. Ils sont largement utilisés dans les systèmes de gaz pour contrôler l'écoulement, la pression et le débit des gaz.

Gasses à gaz: Les manches de pression de gaz sont utilisées pour mesurer le niveau de pression d'un gaz. Ils sont généralement installés à des emplacements critiques dans les systèmes de gaz pour surveiller les changements de pression et s'assurer qu'ils sont dans des limites sûres. Les manches de pression de gaz sont largement utilisées dans l'industrie, la fabrication et les laboratoires, et l'industrie des semi-conducteurs a également été impliquée.

Détecteurs de fuite de gaz: Les détecteurs de fuite de gaz sont utilisés pour détecter les fuites dans les systèmes de gaz. Ils détectentLa présence de fuites de gaz et sonnez une alarme afin que des mesures en temps opportun puissent être prises pour éviter les accidents de fuite. Les détecteurs de fuite de gaz sont largement utilisés dans les applications industrielles, chimiques, pétrolières et gazières, et l'industrie des semi-conducteurs a également été impliquée.


Heure du poste: 20 février-2024