Le régulateur de pression de gaz haute pression 25MPA est utilisé pour les gaz toxiques corrosifs de laboratoire

Brève description:

Caractéristiques

1. Structure de détection de piston à un étage

2. Plage de réglage de la pression de sortie plus large

3. Il peut être utilisé pour le gaz standard et le gaz non corrosif

4. Installez un élément filtrant de 20 microns à l'entrée

5. Des options d'application d'environnement d'oxygène peuvent être fournies

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Description du produit

Caractéristiques

1. Structure de détection de piston à un étage

2. Plage de réglage de la pression de sortie plus large

3. Il peut être utilisé pour le gaz standard et le gaz non corrosif

4. Installez un élément filtrant de 20 microns à l'entrée

5. Des options d'application d'environnement d'oxygène peuvent être fournies

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Spécification du régulateur de pression de gaz

données techniques

1. Pression d'entrée maximale : 4500psi ou 6000PSI

2. Plage de pression de sortie : 0 ~ 1500,0 ~ 3000

3. Matériau des composants internes :

Siège de soupape : PCTFE

Piston : 316L

Joint torique : FKM

Élément filtrant : 316L

4. Température de fonctionnement : – 26 ℃ ~ + 74 ℃ (- 15 ℉ ~ + 165 ℉)

5. Taux de fuite (hélium) : Intérieur : pas de bulles visibles Extérieur : pas de bulles visibles

6. Coefficient de débit (CV) : 0,09

7. Orifice parent : Entrée : 1/4NPT Sortie : 1/4NPT Orifice du manomètre : 1/4NPT

R41	L	B	B	D	G	00	00	P
Article	Matériau du corps	Trou du corps	Pression d'entrée	Pression de sortie	Manomètre	Taille d'entrée	Taille de sortie	Choix
R41	L:316	A	B:6000psig	D : 0 ~ 3 000 psig	Jauge G: MPa	00:1/4″NPT(F)	00:1/4″NPT(F)	P : Montage sur panneau
	B : laiton	B	D:4500psig	E:0~1500psig	P : Jauge psig/bar	00:1/4″NPT(M)	00:1/4″NPT(M)
		D		F:0~500psig	W : Pas de jauge	10:1/8″OD	10:1/8″OD
		G		G:0~250psig		11:1/4″OD	11:1/4″OD
		J				12:3/8″OD	12:3/8″OD
		M				15 : 6 mm de diamètre extérieur	15 : 6 mm de diamètre extérieur
						16 : 8 mm de diamètre extérieur	16 : 8 mm de diamètre extérieur

Techniques de nettoyage

Standard(WK-BA)
Les raccords soudés sont nettoyés conformément à nos spécifications standard de nettoyage et d'emballage.
Aucun suffixe ne doit être ajouté lors de la commande.
Nettoyage à l'oxygène (WK - O2)
Des spécifications pour le nettoyage et l'emballage des produits pour les environnements d'oxygène sont disponibles.
Cela répond aux exigences de propreté ASTM G93 Classe C.Lors de la commande, ajoutez -O2 à la fin du numéro de commande.

Industries impliquées

TFT-LCD

Les gaz spéciaux de procédé utilisés dans le procédé de dépôt CVD du procédé de fabrication TFT-LCD sont le silane (S1H4), l'ammoniac (NH3), la phosphine (PH3), l'oxyde nitreux (N2O), le NF3, etc. l'azote de pureté et d'autres gaz en vrac sont également impliqués dans le processus.L'argon est utilisé dans le processus de pulvérisation, et le gaz formant le film pulvérisé est le matériau principal pour la pulvérisation.Premièrement, il faut que le gaz filmogène ne puisse pas réagir avec la cible, et le gaz le plus approprié est un gaz inerte.Une grande quantité de gaz spécial sera également utilisée dans le processus de gravure, tandis que le gaz spécial électronique est principalement inflammable, explosif et hautement toxique, de sorte que les exigences en matière de circuit de gaz et de technologie sont très élevées.Wofei Technology est spécialisée dans la conception et l'installation de systèmes de transmission de gaz spéciaux à ultra haute pureté.

Les gaz spéciaux sont principalement utilisés dans les processus de formation de film et de gravure sèche dans l'industrie LCD.Il existe de nombreux types d'écrans LCD, parmi lesquels le TFT-LCD est la technologie LCD la plus largement utilisée en raison de son temps de réponse rapide, de sa qualité d'image élevée et de son coût progressivement réduit.Le processus de fabrication du panneau TFT-LCD peut être divisé en trois étapes : assemblage de la matrice avant, de la cellule centrale et du module arrière.Le gaz spécial électronique est principalement utilisé dans les étapes de formation de film et de gravure sèche du processus de matrice avant.Après plusieurs processus de formation de film, des films non métalliques SiNx et des films métalliques tels que grille, source, drain et ITO sont respectivement déposés sur le substrat.

1. qui sommes-nous ?

Nous sommes basés dans le Guangdong, en Chine, à partir de 2011, vendons en Asie du Sud-Est (20,00%), en Afrique (20,00%), en Asie de l'Est (10,00%), au Moyen-Orient (10,00%), sur le marché intérieur (5,00%), en Asie du Sud (5,00 %), Europe du Nord (5,00 %), Amérique centrale (5,00 %), Europe de l'Ouest (5,00 %), Amérique du Sud (5,00 %), Europe de l'Est (5,00 %), Amérique du Nord (5,00 %).Il y a au total environ 51 à 100 personnes dans notre bureau.

2. Comment pouvons-nous garantir la qualité ?

Toujours un échantillon de pré-production avant la production en série ;Inspection toujours finale avant expédition ;

3. Que pouvez-vous acheter chez nous ?

régulateur de pression, raccords de tube, électrovanne, vanne à pointeau, clapet anti-retour

4. Pourquoi devriez-vous acheter chez nous et non chez d'autres fournisseurs ?

Nous avons quelques années avec des ingénieurs professionnels et des techniciens dédiés. Nous pouvons vous fournir des produits de sécurité

5. Quels services pouvons-nous fournir ?

Conditions de livraison acceptées : FOB, CIF, EXW ;

Devise de paiement acceptée : USD, CNY ;

Type de paiement accepté : T/T, L/C, Western Union ;

Langue parlée : anglais, chinois

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