Gas à haute pureté en acier inoxydable en acier pneumatique Valve de diaphragme 1/4 pouce haute pression
Description du produit
Spécification de la vanne de diaphragme pneumatique
| Données techniques | ||
| Taille du port | 1/4 " | |
| Coefficient de décharge (CV) | 0,2 | |
| Pression de travail maximale | Manuel | 310 bar (4500 psig) |
| Pneumatique | 206 bar (3000 psig) | |
| Pression de travail de l'actionneur pneumatique | 4.2 ~ 6,2 bar (60 ~ 90 psig) | |
| température de travail | PCTFE: -23 ~ 65 ℃ （-10 ~ 150 ℉） | |
| Taux de fuite (hélium) | à l'intérieur | ≤1 × 10-9 mbar L / s |
| externe | ≤1 × 10-9 mbar L / s | |
| Données de flux | ||
| Air @ 21 ℃ （70 ℉） Eau à 16 ℃ （60 ℉） | ||
| Chose de pression de la barre de pression d'air maximale (PSIG) | Air (LMIN) | eau (L / min) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3,4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6.8 (100) | 300 | 7.6 |
Processus de nettoyage
▶ Standard (WK-BA)
Tous les joints soudés doivent être nettoyés en fonction des spécifications de nettoyage et d'emballage standard de la société.
Lors de la commande, il n'est pas nécessaire d'ajouter du suffixe
▶ Nettoyage d'oxygène (WK-O2)
Les spécifications de nettoyage des produits et d'emballage pour l'environnement d'oxygène peuvent être fournies. Ce produit rencontre le
Exigences de la propreté ASTMG93C. Lors de la commande, veuillez ajouter - O2 après le numéro de commande
▶ Ultra High Purity (WK-EP)
Peut fournir une finition de surface contrôlée, électropolissant RA0 treize μm. Déionisé
Nettoyage à ultrasons d'eau. Pour commander, ajouter - EP après le numéro de commande
Tous les joints soudés doivent être nettoyés en fonction des spécifications de nettoyage et d'emballage standard de la société.
Lors de la commande, il n'est pas nécessaire d'ajouter du suffixe
▶ Nettoyage d'oxygène (WK-O2)
Les spécifications de nettoyage des produits et d'emballage pour l'environnement d'oxygène peuvent être fournies. Ce produit rencontre le
Exigences de la propreté ASTMG93C. Lors de la commande, veuillez ajouter - O2 après le numéro de commande
▶ Ultra High Purity (WK-EP)
Peut fournir une finition de surface contrôlée, électropolissant RA0 treize μm. Déionisé
Nettoyage à ultrasons d'eau. Pour commander, ajouter - EP après le numéro de commande
 | Matériaux structurels principaux | ||
| Numéro de série | élément | texture de matériel | |
| 1 | Poignée | aluminium | |
| 2 | Actuateur | aluminium | |
| 3 | Tige de soupape | 304 SS | |
| 4 | Bonnet | S17400 | |
| 5 | Noix de capot | 316 SS | |
| 6 | Bouton | laiton | |
| 7 | diaphragme (5) | Alliage de cobalt nickel | |
| 8 | siège de soupape | Pctfe | |
| 9 | carrosserie | 316L SS | |
Dimensions et informations de commande
Type directement
taille
Les dimensions sont en pouces (mm) est pour référence uniquement
taille
Les dimensions sont en pouces (mm) est pour référence uniquement
| Numéro de commande de base | Type de port et taille | Sizein (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| Wv4h-6l-tw4- | Tube 1/4 ″ -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1.12 (28.6) | 1,81 (45,9) |
| Wv4h-6l-fr4- | FA-MCR 1/4 " | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1.12 (28.6) | 2,85 (72,3) |
| Wv4h-6l-mr4- | 1/4 ″ MA-MCR1 / 4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1.12 (28.6) | 2,85 (72,3) |
| Wv4h-6l-tf4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1.12 (28.6) | 2,85 (72,3) |
Industries impliquées
TFT-LCD
Le processus des gaz spéciaux utilisés dans le processus de dépôt de CVD du processus de fabrication TFT-LCD est le silane (S1H4), l'ammoniac (NH3), la phosphine (PH3), l'oxyde nitreux (N2O), NF3, etc. En plus, l'hydrogène à haute pureté et le nitrogène de haute pureté et d'autres gaz en vrac sont également impliqués dans le processus. L'argon est utilisé dans le processus de pulvérisation, et le gaz formant du film est le principal matériau de la pulvérisation. Premièrement, il est nécessaire que le gaz de formation de film ne puisse pas réagir avec la cible, et le gaz le plus approprié est le gaz inerte. Une grande quantité de gaz spécial sera également utilisée dans le processus de gravure, tandis que le gaz spécial électronique est principalement inflammable, explosif et hautement toxique, de sorte que les exigences en matière de circuit de gaz et de technologie sont très élevées. La technologie WOFEI est spécialisée dans la conception et l'installation d'un système de transmission spéciale de gaz spécial ultra-élevé.
Les gaz spéciaux sont principalement utilisés dans les processus de formation de films et de gravure à sec dans l'industrie LCD. Il existe de nombreux types de LCD, parmi lesquels TFT-LCD est la technologie LCD la plus utilisée en raison de son temps de réponse rapide, de sa qualité d'imagerie élevée et de son coût progressivement inférieur. Le processus de fabrication du panneau TFT-LCD peut être divisé en trois étapes: tableau avant, cellule moyenne et module arrière. Le gaz spécial électronique est principalement utilisé dans les étapes de formation de film et de gravure à sec du processus de réseau avant. Après plusieurs processus de formation de films, les films non métalliques Sinx et les films métalliques tels que Grid, Source, Drain et ITO sont respectivement déposés sur le substrat.
Q1. Qu'en est-il du délai de livraison?
R: l'échantillon a besoin de 3 à 5 jours, le temps de production de masse a besoin de 1 à 2 semaines pour la quantité de commande plus que
Q2. Avez-vous une limite MOQ?
R: MOQ bas 1 pic.
Q3. Comment expédiez-vous les marchandises et combien de temps faut-il pour arriver?
R: Nous expédions généralement par DHL, UPS, FedEx ou TNT. Cela prend généralement 5 à 7 jours. La transport aérien et maritime également facultatif.
Q4. Comment procéder à une ordonnance?
R: Tout d'abord, faites-nous part de vos besoins ou application.
Deuxièmement, nous citons selon vos exigences ou nos suggestions.
Troisièmement, le client confirme les échantillons et les lieux de dépôt pour la commande formelle.
Quatrièmement, nous organisons la production.
Écrivez votre message ici et envoyez-le-nous
